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  • 华海清科(HWATSING)

  • CMP设备

    根据市场需求研发的新型12英寸CMP设备,具有四个抛光单元和单套清洗单元,集成多种终点检测技术,可以满足45~130nm Oxide/STI/Poly/Cu/W CMP等各种工艺需求。