"华海清科(HWATSING)"的产品信息列表
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华海清科(HWATSING)
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CMP设备
根据市场需求研发的新型12英寸CMP设备,具有四个抛光单元和单套清洗单元,集成多种终点检测技术,可以满足45~130nm Oxide/STI/Poly/Cu/W CMP等各种工艺需求。
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根据市场需求研发的新型12英寸CMP设备,具有四个抛光单元和单套清洗单元,集成多种终点检测技术,可以满足45~130nm Oxide/STI/Poly/Cu/W CMP等各种工艺需求。